尾上研究室 研究業績一覧: K. Kawamoto, H. Yamaguchi, H. Himi, S. Fujino, and I. Shirakawa, A 200 V CMOS SOI IC with Field-Plate Trench Isolation for EL Displays, February 2001.
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K. Kawamoto, H. Yamaguchi, H. Himi, S. Fujino, and I. Shirakawa, "A 200 V CMOS SOI IC with Field-Plate Trench Isolation for EL Displays," IEICE Trans. Electron, E84-C(2), pp. 260--266, February 2001.
ID 30
分類 論文誌
タグ
表題 (title) A 200 V CMOS SOI IC with Field-Plate Trench Isolation for EL Displays
表題 (英文)
著者名 (author) K. Kawamoto, H. Yamaguchi, H. Himi, S. Fujino, I. Shirakawa
英文著者名 (author)
キー (key) , , , , Isao Shirakawa
定期刊行物名 (journal) IEICE Trans. Electron
定期刊行物名 (英文)
巻数 (volume) E84-C
号数 (number) 2
ページ範囲 (pages) 260--266
刊行月 (month) 2
出版年 (year) 2001
Impact Factor (JCR)
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