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| K. Kawamoto, H. Yamaguchi, H. Himi, S. Fujino, and I. Shirakawa, "A 200 V CMOS SOI IC with Field-Plate Trench Isolation for EL Displays," IEICE Trans. Electron, E84-C(2), pp. 260--266, February 2001. | |
| ID | 30 |
| 分類 | 論文誌 |
| タグ | |
| 表題 (title) |
A 200 V CMOS SOI IC with Field-Plate Trench Isolation for EL Displays |
| 表題 (英文) |
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| 著者名 (author) |
K. Kawamoto, H. Yamaguchi, H. Himi, S. Fujino, I. Shirakawa |
| 英文著者名 (author) |
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| キー (key) |
, , , , Isao Shirakawa |
| 定期刊行物名 (journal) |
IEICE Trans. Electron |
| 定期刊行物名 (英文) |
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| 巻数 (volume) |
E84-C |
| 号数 (number) |
2 |
| ページ範囲 (pages) |
260--266 |
| 刊行月 (month) |
2 |
| 出版年 (year) |
2001 |
| Impact Factor (JCR) |
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| URL |
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| 付加情報 (note) |
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| 注釈 (annote) |
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| 内容梗概 (abstract) |
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| 論文電子ファイル | 利用できません． |
| BiBTeXエントリ |
@article{id30,
title = {A 200 V {CMOS} {SOI} {IC} with Field-Plate Trench Isolation for {EL} Displays},
author = {K. Kawamoto and H. Yamaguchi and H. Himi and S. Fujino and I. Shirakawa},
journal = {IEICE Trans. Electron},
volume = {E84-C},
number = {2},
pages = {260--266},
month = {2},
year = {2001},
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