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K. Kawamoto, H. Yamaguchi, H. Himi, S. Fujino, and I. Shirakawa, "A 200 V CMOS SOI IC with Field-Plate Trench Isolation for EL Displays," IEICE Trans. Electron, E84-C(2), pp. 260--266, February 2001. | |
ID | 30 |
分類 | 論文誌 |
タグ | |
表題 (title) |
A 200 V CMOS SOI IC with Field-Plate Trench Isolation for EL Displays |
表題 (英文) |
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著者名 (author) |
K. Kawamoto, H. Yamaguchi, H. Himi, S. Fujino, I. Shirakawa |
英文著者名 (author) |
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キー (key) |
, , , , Isao Shirakawa |
定期刊行物名 (journal) |
IEICE Trans. Electron |
定期刊行物名 (英文) |
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巻数 (volume) |
E84-C |
号数 (number) |
2 |
ページ範囲 (pages) |
260--266 |
刊行月 (month) |
2 |
出版年 (year) |
2001 |
Impact Factor (JCR) |
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URL |
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付加情報 (note) |
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注釈 (annote) |
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内容梗概 (abstract) |
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論文電子ファイル | 利用できません. |
BiBTeXエントリ |
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